由人工智慧驱动的设计应用
重点摘要:
(台北訊)新思科技近日宣布其數位與客製化设计平台已通過台積公司最先進極紫外光微影(extreme-ultra-violate,EUV)5奈米製程技術的認證。此項認證乃植基於雙方在EUV製程上多年來的廣泛合作,進而提供高度優化的设计解决方案,加速新一代设计的發展。
Design Compiler? Graphical synthesis工具經過嚴格的5奈米實施验证(enablement validation),並在時序、面積、功耗和congestion等方面與IC Compiler? II佈局繞線呈現相關性。透過通路銅柱(via-pillar)優化的增強、多位元記憶庫存(multibit banking)、腳連結(pin-access)優化等創新技術,Design Compiler Graphical 5奈米功能可提升效能、功耗與面積的表現。
實現高设计密度的關鍵在於IC Compiler II中的增強功能,可在優化過程中直接處理複雜、多變量(multi-variant)及二維元件擺置(cell placement),同時將下游的可繞線度(routability)及整體的设计收斂(convergence)達到最大。
新思科技笔谤颈尘别罢颈尘别?時序分析與签核解决方案中的參數晶片內變異(Parametric on-chip variation,POCV)分析經強化後,能準確地掌握因製程微縮(process scaling)與近臨界區超低功耗(near-threshold ultra-low-voltage)的節能運作所增加的非線性變化。此外,物理感知(physically-aware)ECO經擴充後能支援更複雜的佈局與電網设计規則,以改善雍塞(congestion)、佈局,並提升腳連結感知(pin access awareness)。
台積公司设计建構行銷處資深處長Suk Lee表示:「5奈米EUV製程技術是台積公司的核心里程碑,它將持續擴展我們在業界的最佳製程技術領導地位。我們與新思科技就流程的簡化與結果效率(time-to-results)的提升保持密切合作,讓雙方共同的客戶可以採用此新製程技術與新思科技设计平台。這項合作關係將為高效能運算與超低功耗行動應用帶來最大的process entitlement,我們也期待雙方能就下一代節點持續進行合作。」
新思科技行銷副總裁Michael Jackson說道:「先期的路徑搜尋(path-finding)與台積公司的廣泛合作,讓共同客戶能充分利用台積公司5奈米製程技術及新思科技的设计平台。雙方的合作也加速客戶取得5奈米製程技術,協助讓當前最高密度的设计快速進入量產,並具備同級最佳的功耗、效能與面積表現。」
應用於台積公司5奈米製程技術的新思科技设计平台之"技術檔案、程式庫及寄生數據(parasitic data)已可透過台積公司取得。通過台積公司5奈米FinFET製程認證的新思科技设计平台主要产物功能包括:
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新思科技名列美國標普500指數成分股,長期以來是全球排名第一的IC電子设计自動化(EDA)創新公司,也是排名第一的IC介面滨笔供應廠商,專門提供「矽晶到軟體(Silicon to Software?)」最佳的解决方案。不論是針對開發先進半導體系統單晶片(SoC)的设计工程師,或正在撰寫應用程式且要求高品質及安全性的軟體開發工程師,新思科技都能提供所需的解决方案,以協助工程師完成創新、高品質並兼具安全性的产物。更多詳情請造訪:。&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;
新思科技1991年在台湾成立分公司,並於2012年底合併思源科技,目前員工總人數已達700位,其中有超過400位的研發人才,是在台湾的跨國軟體公司中,擁有最大規模研發團隊的公司之"一。新思科技持續為台湾培養半導體设计軟體人才,加速國內廠商产物開發與問市的時程,強化台湾在半導體國際市場的競爭力。
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