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光刻工艺的预测建模

Sentaurus 光刻是用于半导体器件制造工艺开发和优化的先进光刻仿真工艺。它涵盖近距离打印、光学、浸没、极端紫外 (EUV) 和电子束 (e-beam) 等为数众多的光刻应用领域。如果考虑光罩和衬底光刻对于光刻胶图形的影响，则可透彻分析曝光工具在成像系统中可能限制工艺的影响。将 Sentaurus 光刻工艺和 Sentaurus Topography 相结合，可以对双重图形等复杂工艺进行无缝建模。在设计和光罩合成领域将 Sentaurus 光刻和其他 Synopsys 工具相衔接，加快了光学邻近修正 (OPC) 模型的生成，并有助于尽量降低工艺敏感度。