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础滨驱动的设计应用
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光罩合成
前沿的 Lithography 解决方案
光罩合成由各种光刻图形工具组成，既可用于开发也可批量使用模型。Proteus 的系列工具为执行全芯片光学邻近修正 (OPC) 和反向光刻图形技术 (ILT) 提供了全面、强大的环境，并可对已修正的 IC 版图图形加以检查、分析。
对于开发使用模型，Proteus 和 Sentaurus Lithography 紧密结合以提供非常高的精度和可预测性，从而交付更快上市时间的结果。Synopsys 的光罩合成工具历经行业近二十年的生产考验，是顶尖 IDM 和晶圆厂的首选工具之"一。