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プロセス?シミュレ`ション
磯擬悶デバイスのu夛プロセスを∀襯皀妊螢鵐
プロセス?シミュレ`ションは、トランジスタなどの磯悶デバイスのu夛垢殻、麼にFEOL殆徨侘撹垢殻のモデリングに鬉靴泙后ライン?ステップのバックエンドは、Sentaurus Interconnectなどのツ`ルを聞ってI尖されます。
互來嬬な方･▲襯乾螢坤爐？な磯悶可創のイオン廣秘、柊、音麗試來晒、エッチング、デポジション、磨晒、エピタキシャル撹Lなどのプロセス垢殻をシミュレ`ションします。光u夛粁A嶄の寄櫃了僥撹蛍、梁業、R薦などのプロセス訳周が匯違議な秘薦です。恷K議な竃薦は、デバイス?シミュレ`ションで旋喘辛嬬な2Dまたは3Dのデバイス夛です。シノプシスは Sentaurus Process、Taurus TSUPREM-4、Sentaurus Lithography、Sentaurus Topographyの4つのシミュレ`ション?ツ`ルをご戻工しています。