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マスク合成
最先端のリソグラフィ?ソリューション
マスク合成は、开発およびバッチのユース?モデルの両方のためのリソグラフィ?ツールで构成されています。笔谤辞迟别耻蝉のバッチ?ツールは、フルチップの光学近接効果补正（翱笔颁）、インバース?リソ技术（滨尝罢）、および修正后の滨颁レイアウト?パターンのプロセス?チェックと解析のための包括的で强力な环境を提供します。
開発ユース?モデル用には、ProteusおよびSentaurus Lithographyは、緊密に統合され、製品化期間を短縮する最高の精度と予測性を提供します。シノプシスのマスク合成ツールは、20年近く业界で検証され、最先端のIDMやファウンダリで導入されているツールです。