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新思科技与台積公司合作，利用優化的EDA流程快速啟動台積公司N2 製程设计
新思科技数位与客製化设计流程可提高 N3E 和 N2 先進 SoC效能並將功耗降至最低
获业界领导公司採用
(台北訊)為不斷滿足新一代系統單晶片(SoC) 的嚴格设计目標，新思科技今日宣布与台積公司合作，在台積公司最先進的 N2 製程中提供数位与客製化设计 EDA 流程。相較於N3E 製程，台積公司N2 製程採用奈米片(nanosheet)電晶體結構，在相同功耗下可提升速度達 15% ，或在相同速度下可減少30%的功率，同時還能提高晶片密度。新思科技對整體 EDA技術的大量投入讓设计人員能夠快速啟動N2製程设计，不僅為SoC帶來差異化同時也能縮短上市時程。
台積公司设计基礎架構管理部負責人Dan Kochpatcharin表示：「台積公司与新思科技協助雙方客戶在台積公司最先進的 N2 製程中透過新思科技完整的EDA 解决方案，實現一流的设计結果。雙方長期的合作幫助創新者在各式應用中滿足或超越最嚴苛的产物设计目標；這些應用包括高效能運算、行動和人工智慧等。」
新思科技 EDA事業群策略与产物管理副總裁Sanjay Bali說道：「新思科技和台積公司持續推進半導體技術，在最新的 N2 製程上挑戰设计物理的極限。在台積公司N2 製程中運用新思科技数位与客製化设计流程能讓设计人員大大受益於台積公司N2製程的先進功能，並縮短上市時程。」
新思科技獲認證的EDA和 IP 解决方案在台積公司3奈米製程技術的成功，建立了雙方在N2上的合作基礎，迄今已有數十家業界領先公司藉此成功實現投片(tape-out)。新思科技的客戶可仰賴經認證的数位与客製化设计流程、新思科技基础滨笔和介面 IP以及新思科技晶片生命週期管理 (SLM) 的晶片內(in-chip)製程、電壓和溫度 (PVT) 監控 IP 來提升N3 设计。 而有意將 N4 和 N5 设计轉移到 N3E 的设计人員則可利用新思科技 EDA 類比遷移流程，有效率地在不同製程節點中重複使用同一设计。
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關於新思科技 (Synopsys)
新思科技是專為開發電子产物及軟體應用創新公司提供「矽晶到軟體(Silicon to Software?)」解决方案的最佳合作伙伴。新思科技名列美國標普500指數成分股，長期以來是全球電子设计自動化(EDA)和半導體IP領域的領導者，並發展成為提供軟體品質及安全測試的領導廠商。不論是針對開發先進半導體系統單晶片(SoC)的设计工程師，或正在撰寫應用程式且要求高品質及安全性的軟體開發工程師，新思科技都能提供所需的解决方案，以協助工程師完成創新、高品質並兼具安全性的产物。更多詳情請造訪：。
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